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正所谓时势造英雄,当时已在台积电担任光刻技术研发负责人的林本坚,早已注意到这个瓶颈。……林本坚,男,1942年出生在越南,中国台湾人,祖籍广东潮汕,美国国家工程院院士,台湾“中央研究院”院士,台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授,清大—台积电联合研发中心主任。林本坚1963年获得台湾大学电机工程学系学士;1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程学系博士;2000年—2015年在台湾积体电路制造股份有限公司任资深处长、杰出科技院士和副总经理;2008年当选美国国家工程学院院士;2014年当选台湾“中央研究院”院士;2015年底从台积电退休。林本坚专注于半导体制程中的微影技术的研发,带领团队创造出许多领先全球的技术,包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技术。……他换个角度思考,发现可以在原有193纳米干式光刻镜头上发展
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